La cible titanique ronde de pulvérisation a forgé l'usinage de commande numérique par ordinateur

Cible ronde titanique adaptée aux besoins du client de cible titanique

Les cibles titaniques de grande pureté et à haute densité de pulvérisation incluent :
Cible titanique de pulvérisation (pureté : 99.9%-99.999%)

Habituellement nous fournirons à un rapport d'inspection de qualité comme ceci les marchandises,

ce qui montre la composition chimique et les propriétés physiques

Q : Pourquoi choisissez-nous ?

A1 : Nous avons 14 ans d'expérience pour la fabrication titanique de produits.

A2 : l'ordre d'échantillon est acceptable.

A3 : prix inférieur, bonne qualité et délai de livraison court.

A4 : La citation peut être de faire d'ici 24 heures.

A5 : ISO9001 : certification 2015

A6 : Donnez-nous dessinant, faites vos dessins et les idées deviennent une réalité !

A7 : Fournissez les tiers rapports d'inspection de qualité.

Traitement de diverses cibles titaniques pour le revêtement :

Cibles en métal : cible de tungstène, cible de molybdène, cible de tantale, cible de niobium, cible de zirconium, cible de cobalt, cible de vanadium, cible de cuivre, cible de platine, cible d'hafnium, cible de niobium, cible en aluminium, cible de fer, cible de chrome, cible d'alliage de titane-niobium, cible titane-zirconium d'alliage, cible d'alliage de titane-tungstène, cible de l'alliage titane-GUI, cible de titane-aluminium, cible d'alliage de nickel-chrome, cible d'alliage d'aluminium-chrome, cible titanique de grande pureté, cible titanique d'ultra-haut-pureté, cible de grande pureté de nickel, cible de grande pureté de tantale, matériel de cible de polysilicium, cible en aluminium de pureté ultra-haute, (99.95%-99.999%),

Classification : cible de revêtement d'ion de Multi-arc, cible plate titanique, cible rotatoire titanique de tube, plat arrière de cible titanique, tube arrière de cible titanique

Utilisations : revêtement d'outil, revêtement décoratif, industrie électronique, industrie d'affichage à panneau plat, revêtement en verre de vaste zone bas-e, semi-conducteur, affichage à cristaux liquides, industrie à énergie solaire, lentille optique, industrie optoélectronique, cible obligatoire en céramique, cible de pulvérisation, etc.

Cible de revêtement de pulvérisation de magnétron :
La cible de revêtement de pulvérisation en métal, cible titanique de pulvérisation, cible de revêtement de pulvérisation d'alliage, cible en céramique de revêtement de pulvérisation, cible en céramique de pulvérisation de borure, cible en céramique de pulvérisation de carbure, cible en céramique de pulvérisation de fluorure, cible en céramique de pulvérisation de nitrure, cible en céramique d'oxyde, cible en céramique de pulvérisation de séléniure, cible en céramique de pulvérisation de siliciure, cible en céramique de pulvérisation de sulfure, cible en céramique de pulvérisation de tellurure, l'autre matériel de cible en céramique, cible en céramique chrome-enduite d'oxyde de silicium (Cr-SiO), la cible de phosphure d'indium (INP), plomb la cible d'arséniure (PbAs), cible d'arséniure d'indium (InAs).