Surface titanique de tour de commande numérique par ordinateur de cible de pulvérisation de grande pureté pour le revêtement en verre

Cible titanique de pulvérisation de titane de cible de grande pureté

Nous pouvons fournir la cible titanique ronde, cible titanique carrée, cible titanique rectangulaire,

ou selon vos conditions ou dessins.

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ISO9001 : certification 2015

Service à la clientèle amical et délai de livraison court.

Des cibles titaniques de pulvérisation sont principalement employées dans les industries électroniques et de l'information telles que des circuits intégrés, le stockage de l'information, des affichages à cristaux liquides, la mémoire de laser et des dispositifs de contrôle électronique. Elles peuvent également être employées dans le domaine du revêtement en verre. Il peut également être employé dans les matériaux résistants à l'usure, les produits décoratifs anticorrosion et de la meilleure qualité à hautes températures et d'autres industries.

Cible titanique de grande pureté et à haute densité de pulvérisation :

Cible titanique de pulvérisation (pureté : 99,9% -99,999%)

Le revêtement de pulvérisation de magnétron est un nouveau type de méthode physique de dépôt. Il y a beaucoup d'avantages évidents par rapport aux méthodes de revêtement de dépôt en phase vapeur. Comme technologie relativement mûre développée, le magnétron pulvérisant a été appliqué dans beaucoup de domaines. Cible titanique de pulvérisation
Cible titanique de pulvérisation de technologie de pulvérisation

La pulvérisation est l'une des principales technologies pour fabriquer des matériaux de la couche mince. Les ions produits par la source d'ions sont employés pour accélérer et agréger dans le vide pour former un faisceau d'ions rapide d'énergie, effectuant la surface solide et échangeant l'énergie cinétique entre les ions et les atomes extérieurs solides. Atomes sur la surface d'un congé solide le solide et le dépôt sur la surface du substrat. Le solide effectué est une matière première pour préparer les couches minces déposées par la méthode de pulvérisation, appelée les cibles de pulvérisation. Les divers types de matériaux pulvérisés de la couche mince sont très utilisés dans des circuits intégrés de semi-conducteur, le photovoltaics, des supports d'enregistrement, des affichages à panneau plat, et des revêtements de surface d'objet.

Traitement de diverses cibles de revêtement :

Cibles en métal : cible de tungstène, cible de molybdène, cible de tantale, cible de niobium, cible de zirconium, cible de cobalt, cible de vanadium, cible de cuivre, cible de platine, cible d'hafnium, cible de niobium, cible en aluminium, cible de fer, cible de chrome, cible d'alliage de titane-niobium, cible titane-zirconium d'alliage, cible d'alliage de titane-tungstène, cible de l'alliage titane-GUI, cible de titane-aluminium, cible d'alliage de nickel-chrome, cible d'alliage d'aluminium-chrome, cible titanique de grande pureté, cible titanique d'ultra-haut-pureté, cible de grande pureté de nickel, cible de grande pureté de tantale, matériel de cible de polysilicium, cible en aluminium de pureté ultra-haute, (99.95%-99.999%),

Classification : cible de revêtement d'ion de Multi-arc, cible plate titanique, cible rotatoire titanique de tube, plat arrière de cible titanique, tube arrière de cible titanique

Utilisations : revêtement d'outil, revêtement décoratif, industrie électronique, industrie d'affichage à panneau plat, revêtement en verre de vaste zone bas-e, semi-conducteur, affichage à cristaux liquides, industrie à énergie solaire, lentille optique, industrie optoélectronique, cible obligatoire en céramique, cible de pulvérisation, etc.