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Oxyde de titane des matériaux de cible de pulvérisation de tantale Gr1 avec la métallisation sous vide de Pvd

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Chine Baoji Luox Quality Metals Co., Ltd. certifications

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Oxyde de titane des matériaux de cible de pulvérisation de tantale Gr1 avec la métallisation sous vide de Pvd

Image Grand : Oxyde de titane des matériaux de cible de pulvérisation de tantale Gr1 avec la métallisation sous vide de Pvd

Détails sur le produit:

Lieu d'origine:	La Chine
Nom de marque:	QUALITY METALS
Certification:	ISO9001:2015 certification
Numéro de modèle:	CDX--TB-2021020
Document:	Brochure du produit PDF

Conditions de paiement et expédition:

Quantité de commande min:	Échantillons disponibles
Prix:	négociable
Détails d'emballage:	caisse de contreplaqué
Délai de livraison:	5-35 jours ouvrables
Capacité d'approvisionnement:	50000KG/month

Contact

Description de produit détaillée

mots-clés:	Titane de cible en métal de grande pureté	Application:	affichage à cristaux liquides, mémoire de laser,
Catégorie:	Gr1	Contenu de Ti (%):	99,6%, 99,99%, 99, 99.95%-99.999%, 95%
Forme:	En rond, les coutumes ont fait, rond et rectangle, plat de tube, comme demande	Surface:	Poli, nettoyage, surface de tour de commande numérique par ordinateur, mariné, lumineuse
Nom de produit:	disque titanique, barres titaniques, alliage d'aluminium de chrome, cible plate de pulvérisation de	Norme:	ASTM B265 standard Grade1
nom:	cible titanique de pulvérisation de la grande pureté GR1	Type:	Équipement d'électrochimie, cible ronde, grande pureté CrAl, titane en métal
Mot-clé:	Barres titaniques Chine, cible titanique de pulvérisation, cible titanique pure, anode titanique de
Mettre en évidence:	Matériaux de cible de pulvérisation d'oxyde de titane , Matériaux de cible de revêtement de pulvérisation de Pvd , Cible de pulvérisation du tantale Gr1

Cible titanique de pulvérisation de pulvérisation de place de cible de la grande pureté 99,995% de Ti titanique pur de circulaire
Cible titanique de pulvérisation
Cible titanique de pulvérisation de cible de Ti de cible d'arc de titane de la catégorie 1 de revêtement de PVD
99,9% cible rotatoire de pulvérisation de l'oxyde de titane TIOX de métallisation sous vide de Pvd de cible de pulvérisation de cible d'oxyde de titane de Tiox

cible titanique de pulvérisation de la grande pureté GR1

Matériel de ★
Titane	Gr. 1
Mots clés	Cible titanique de pulvérisation
Cible titanique de pulvérisation, cible titanique pure de cible, anode titanique de revêtement de MMO
Application :
◆affichage à cristaux liquides, mémoire de laser,
◆Contrôleur électronique pulvérisant le matériel de la couche mince,
◆Circuits intégrés de semi-conducteur,
◆Photovoltaïque solaire, support d'enregistrement,
◆Affichage plat, revêtement de surface d'objet etc….

Tolérance	+/-0.01mm
Surface	Poli, nettoyage, surface de tour de commande numérique par ordinateur, mariné, lumineuse
Dimensions	accorder la demande du client.
Contenu de Ti (%)	99,96% 99,98% 99,99%
Densité	4.51g/cm3
Couleur	couleur originale titanique
Services : Commande numérique par ordinateur, usinant, tournant, fraisant, emboutissant, moulant, forant, meulage, filetant etc.

Oxyde de titane des matériaux de cible de pulvérisation de tantale Gr1 avec la métallisation sous vide de Pvd 0

Termes de l'échange	EXW, GOUSSET, CAF
Conditions de paiement	T/T, L/C
Emballage	intérieur de papier en plastique, caisse de contreplaqué dehors.
Contrôle de qualité	Essai par ultrasons et rapport des essais matériels
Délai de livraison	7-30 jours
MOQ	La quantité de commande est acceptable.
Type d'affaires	Fabricant, commerce étranger

Des « cibles de pulvérisation sont principalement employées dans des industries électroniques et de l'information, telles que le circuit intégré, le stockage de l'information, l'affichage à cristaux liquides, la mémoire de laser, le contrôleur électronique, etc. ; elles peuvent également être employées dans le domaine du revêtement en verre ; elles peuvent également être employées dans les industries telles que les matériaux résistants à l'usure, la résistance à la corrosion à hautes températures, les produits décoratifs à haute teneur, etc.

Les conditions de pulvériser la cible sont plus hautes que ceux de l'industrie matérielle traditionnelle, tel que la taille, la planéité, la pureté, le contenu d'impureté, la densité, le N/O/C/s, le grosseur du grain et le contrôle de défaut ; des conditions plus élevées ou spéciales incluent : l'aspérité, la valeur de résistance, l'uniformité de grosseur du grain, l'uniformité de composition et de structure, le contenu et la taille de corps étrangers (oxyde), la perméabilité, la densité ultra-haute et le grain, le revêtement ultra-fins de pulvérisation de magnétron etc. est une nouvelle méthode physique de revêtement de vapeur, qui emploie un système de canon électronique pour émettre et concentrer des électrons sur le matériel plaqué, de sorte que les atomes pulvérisés suivent le principe de la conversion d'élan et volent à partir du matériel au substrat avec de l'énergie cinétique élevée pour former un film. Ce matériel plaqué s'appelle la cible de pulvérisation.
Q : Pourquoi choisissez-nous ?
A1 : Nous avons 14 ans d'expérience pour la fabrication titanique de produits.
A2 : l'ordre d'échantillon est acceptable.
A3 : prix inférieur, bonne qualité et délai de livraison court.
A4 : La citation peut être de faire d'ici 24 heures.
A5 : ISO9001 : certification 2015
A6 : Donnez-nous dessinant, faites vos dessins et les idées deviennent une réalité !
A7 : Fournissez les tiers rapports d'inspection de qualité.